연구실 인원 모집 연구실 소개 소개 연구 소개 모집 내용 박사님 한승희 박사님 PIII & D PVD PECVD 한국과학기술연구원(KIST) PIII&D(Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition) 연구실 인원모집 삼성, 엘지 등 제조산업에서 많이 쓰는 플라즈마 장비에 대해 배웁니다. 삼성전자, 핵융합연구소, 엘지디스플레이, 한국과학기술연구원, KIST 독일연구소 등 졸업자 10여명 연구실은 KIST에 있고, 소속은 고려대 등으로 공학석(박)사 학위를 받게 됩니다. 학비 상당의 연구비와 과제별 성과급 등을 받습니다. 특허를 많이 쓸 수 있어 큰 도움이 됩니다. 2012 전반기 KIST 학연 석사 우수 졸업생 배출 2012 후반기 KIST 학연 석사 최우수 졸업생 배출 SCI 논문 1편 이상 게재, 공동저자로 수 편 게재. 입학 문턱이 높지 않으니 많은 지원 부탁드립니다. 일자무식으로 들어와 현장 지휘자가 되어 나가게 됩니다. 연구실 소개 박사님 소개 한승희 박사님 1982, 서울대, 원자핵공학과 B.S. 1988, University of Wisconsin M.S. & Ph.D. 1990-현재, KIST 책임연구원 및 센터장 역임, 다수 대학 출강 연구 소개 PIII & D PIII & D (Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition) - 세계 최초 고체원소 플라즈마 이온주입 장비 (자체 개발, 미국 특허 출원) - 플라즈마를 이용한 소재의 고기능성 표면개질 기술 개발 Quantum Dot, 촉매, 생체재료, HiPIMS 등 다양한 실험 가능 PVD PVD (Pulsed-DC Magnetron Sputtering Physical Vapor Deposition) - 광촉매(Photo-Catalyst) 등에 적용 PECVD VHF-PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 박막실리콘 (a-Si:H, uc-Si:H) 태양전지 재료 개발 모집 내용 모집분야 : 신소재, 물리, 화학, 전기전자 및 관련 전공 모집대상 : 학부 4년 이상의 재학생 및 기졸업자 * 학부재학생은 근무와 학업을 병행할 수 있어야 합니다. 모집인원 : 0명 제출서류 : 이력서 및 자기소개서, 대학(원) 성적증명서 각 1부 (총2부) 특혜사항 : KIST 학연 학생으로 고려대, 연세대 등 대학원 입학 가능 * 대학원 학비 상당의 장려금 지원 문의사항 : 02) 958-5453, 010-9228-1742(장진혁), T12565@kist.re.kr * 서류가 준비되지 않았어도 부담없이 문의 하세요.