QC 080000 IECQ HSPM Overview 2006. 5. 9
HSPM의 정의 Hazardous Substance Process Management International Electrotechnical Commission QC 080000 IECQ HSPM 2005 Electrical & Electronic Components and Products Hazardous Substance Process Management System Requirements 전기전자 부품 및 제품에 대한 유해물질 규제에 효과적으로 대응할 수 있도록 고안된 유해물질프로세스 경영시스템 - Second Edition 2005-10
QC 080000 IECQ HSPM RoHS, WEEE, SB-50 및 Green Process 등을 통합. EIA/ECCB-954(US Standard)로 부터 개발됨. 1~1.5년 내 산업규격으로 발전되는 것이 목표임. 구축을 위한 솔루션은 Process-based여야 함. ISO 9001:2000 QMS framework (not ISO 14001) (제품을 생산하는 프로세스에 보다 중점을 두기 위함) IECQ HSPM Strengths ISO 9001:2000 (HSF goals을 추구하는 프로세스들을 포괄적, 체계적 으로 관리하기 위해 ISO 9001:2000 QMS를 보충함)
Key Contributors to QC 080000 Contributing Companies The Boeing Company Northrop-Grumman Honeywell Philips Semiconductor Rockwell-Collins GE BAE Systems Control Avnet QinetiQ Technology Electronic Industry Alliance (EIA) OmniCell Contributing Industry Programs Sony Green Process Ricoh Green Process HP Green Process Motorola Green Process
HSPM 관련 최근 동향 Registered companies SigmaTel (US) Solnet Metal Technologies (Taiwan) Lead(Pb) manufacturer Deltron Electronics (FRA) Fook Tin (China & Hong Kong) Gigabyte (Taiwan) Major US Fortune 500 companies & others interested SONY, Canon, IBM, 애플, MEC, DELL, 도시바 등 ~300 individuals trained in HSPM throughout US, EU, & Asia
IECQ HSPM 인증의 Benefits IECQ 인증은 제조사의 프로세스가 위험물질의 제거와 관련한 규제를 준수함을 보장 기업이 가지고 있는 프로세스가 HSF를 위해 제품이 적절히 관리되고 있음을 국제 시장에 선언 국제 시장으로의 접근을 보장하고, 경쟁적인 장점을 창출 법률 및 최고 엄격 수준의 산업 기준에 충족함을 보장 비즈니스 창출, 비용절감 등의 재정적인 개선 효과 - 장기간의 고객심사 대체 - 시험 요구사항 감소
국내 HSPM 도입 예상 기업 국제 환경규제 대응과 관련하여 협력업체 관리방안 Tool로서 활용코자 하는 기업체 (예. 대기업/중견기업의 협력업체 관리 시스템) RoHS, WEEE, SB50 등 국제 환경관련 규제에 대응 하고 있는 (또는 제품측면에서만 단편적으로 대응하고 있는) 기업체 해외 Buyer의 유해물질/폐기물 처리 관련 시스템 요구사항 발생이 예상되는 기업체 유해물질에 관한 법규준수와 폐기물 처리 규제에 대한 시스템적인 접근을 추구하고자 하는 기업체 등
감사합니다. 본 『유해물질프로세스 경영시스템(HSPM)』에 대해 보다 구체적인 정보 또는 문의사항이 있으신 경우, 아래의 연락처로 연락하여 주시기 바랍니다. - 에이비엔에스㈜ 김광호 전문위원 - ※전문위원 연락처 Tel : 02-2026-2990 Fax : 02-2026-2996 H.P : 017-553-5195 E-mail : khjkkh@empal.com