We provide The Hitechnology & Future Environment

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1 We provide The Hitechnology & Future Environment
KAEL 894, Tamnip-dong, Yuseong-gu, Daejeon, , Korea Tel:(042) ~9 Fax:(042) We provide The Hitechnology & Future Environment KAEL 회사소개서

2 We provide The Hitechnology & Future Environment
Contents Ⅰ. 회사 개요 Ⅱ. 사업 영역 Ⅲ. 제품 구성 - 기초핵심소재 - 반도체/디스플레이 사업 - 장치 및 시스템분야 Head Office R&D Institute

3 Ⅰ. 회사 개요 ㈜ 카 엘 (KAEL Co., Ltd.) 설 립 일 사업영역 자 본 금 자 산 매 출 액 종업원수 본 사
1998년 3월 10일 (원자력연구소 연구원 창업회사) 사업영역 소재사업 Coating Resin, Catalyst 반도체/디스플레이 공정클린사업 : CA Filter, AL FilterDry, Gas Scrubber/Resin, Ion Exchange Scrubber, F2 Trap 등 장치/시스템 환경사업 : Total Off-Gas Control System, 대기오염/악취방지설비 특수환경오염제어기 등 자 본 금 3,566 백만원 자 산 33,487 백만원 매 출 액 17,246 백만원 (2008년 기준) 종업원수 87명 (연구개발인력 20%, 18명) 본 사 대전시 유성구 탑립동 894번지 대덕테크노밸리내 대지 9, ㎡ (2,800평) 부설연구소 대전시 대덕구 신일동 대지 3,970 ㎡ (1,200평)

4 회사 개요 카엘 연혁 카엘 주요 인증/수상 경력 ▷ 1998년 주식회사 카엘 설립
(원자력연구소 연구원 창업회사) ▷ 1999년 NH3/O3 제거용 CA Filter 국산화 ▷ 2000년 공장 및 기업부설연구소 준공 ▷ 2001년 반도체공정용 CA Filter 적용 ▷ 2003년 CA Filter 삼성반도체 납품 ▷ 2005년 KOSDAQ 상장 ▷ 2005년 디스플레이 공정용 CA Filter 납품 ▷ 2006년 CA Filter 중국/싱가폴 수출 ▷ 2007년 신개념 Filter Media 개발 및 미주시장 진출 태국시장(SEIKO) 진출 ▷ 2009년 세계4대 필터 제조사 Media 공급 계약 ▷ 1999년 유망중소기업지정 (KAERI/대전시) ▷ 1999년 ISO 9001:2000 인증 ▷ 2002년 CA Filter TEL 인증 ▷ 2003년 기술혁신형 중소기업(INNO-BIZ)선정 ▷ 2003년 기술혁신상 금상수상 (국무총리상) ▷ 2003년 CA Filter 삼성 Qual 인증 ▷ 2005년 우수납세자 국세청장상 수상 ▷ 2005년 벤처기업 재지정(신기술기업) ▷ 2006년 ISO 14001:2004 (환경경영시스템) 인증 ▷ 2007년 수출유망중소기업 인증 첨단기술기업지정 (과기부) OHSAS 인증 ▷ 2008년 녹색에너지대상 수상(PAS)

5 연구개발 현황 CA Filter 개발 (Carbon Type, Fabric Type, Pleat Type) 반도체 유해가스 제거용 Coating Resin 개발 1999년 2000년 VSA 방식을 이용한 VOC 회수 장치 개발 O3 CA Filter 개발 NH3 CA Filter 개발 (Carbon Type) 2001년 이온교환섬유와 이온교환수지를 이용한 Media 제조와 이를 응용한 Wet Scrubber 장치 개발 NH3 CA Filter 개발 (이온교환부직포 Type, 이온교환수지 Type) 년 도 개 발 명 Ion Exchange Scrubber 와 Coating Resin을 이용한 소각로 유해가스 제거기술 개발 CO Filter 개발 Hybrid Filter(O3+NOx) 개발 NF3, ClF3, AsH3, PH3, BF3 제거용 Coating Resin 개발 2002년 특수환경오염제어기 개발 (산업용, 화장실용, RI용, 야채/화훼용) Hybrid Filter(NH3+SOx+NMP+Amine+NOx) 개발 Cyplus CA Filter 개발(삼성반도체와 공동 특허취득) Ion Exchange Scrubber 개발 2003년

6 연구개발 현황 Acid CA Filter 개발 ( HCl, Cl2, HF, SOX, NOX, 기타 부식성 Gas) Microwave Dryer 개발 Organic CA Filter 개발 (Display 공정 적용) 2004년 년 도 개 발 명 2005년 PFC Scrubber 시스템 개발, CO/CO₂흡착제 개발 Coating Resin 개발 (HCl, BCl₂등) Hybrid CA Filter 개발 (NH₃/ SOX) 성형활성탄 개발 대덕연구개발특구 기능성 나노기공소재 개발 및 사업화기업 선정 2006년 액상촉매제를 이용한 VOCs 저감설비 기술도입 NGM (New Generation Media) Filter 개발 국산개발 군용 Coating Resin (MIL-C-1372D 규격) 성능시험 인증 (GB시험 제외) 2007년 Tri-Plus Filter 개발 (Photo ArF Scanner 장비용 유기물 필터) AOCS System 개발 (산배기가스 처리용 2차 Scrubber) PAS System 개발 (냉각탑 백연제거 시스템) V-Bank Type 필터개발 2008년 WFVOC 개발 (유기물제거 시스템) N2O 제거 촉매기술도입 및 환경부 환경기술개발사업 선정

7 Ⅱ. 사업 영역 사 업 영 역 사업부문별 매출구성 응용사업 확장사업 핵심소재 172 138 129 103 109 45
반도체/디스플레이 공정클린화 장치사업분야 특수가스제거 확장사업 산업환경개선 대기오염방지사업 실내공기질 개선 수처리 국방사업 핵심소재 Coating Resin Catalyst (단위:억) CA Filter 172 Gas Scrubber Equipment/System Export 117 138 129 80 103 109 110 87 80 14 45 21 30 □ 특 허 보 유 현 황 - 복합흡착제를 사용하여 반도체 제조공정에서 발생되는 배기가스를 처리하는 처리방법 - 케미컬 필터 미디엄, 케미컬필터 및 이의제조 방법 등… 특허 64건 , 실용신안 11건 보유 27 15 7 15 9 15 17 14 10 8 3 5 2 2 3

8 기술 및 영업 Network 사업분야 주요 Network 연구개발 반도체 사업 디스플레이 사업 환경 및 특수사업

9 Ⅲ. 제품 구성 사 업 구 분 적용 주요제품 기초 핵심소재 Coating Resin (Impregnated Active Carbon, Inorganic Adsorbant, Catalyst) 반도체/ 디스플레이 사업 CA Filter ( NH3, O3, Organic, ACID, SO2, Amine, SOx, NOx, NMP... ) CYPLUS-1000 Series ( FFU용 )/ CYPLUS-2000 Series ( 순환기용 ) CYPLUS-3000 Series ( 외조기용 )/ CYPLUS-5000 Series ( 장비용 ) CYPLUS-6000 System A-Line Filter ALPLUS-1000, 2000, 3000 Serise Gas Scrubber/Resin, Ion Exchange Scrubber 장치 및 시스템분야 대기오염방지시스템 (VOC 회수/제거설비, 악취제거설비, De-NOx 설비) 특수가스제거장치 (Gas Filtering System, 특수환경오염제어기) Total Off-Gas Control System PAS (백연제거시스템) , KWRF(산배기처리시스템) 군용 Coating Resin , 군용 방독면 정화통 가스여과기(함상용, 전차용)

10 기초 핵심 소재 - Coating Resin 기초 소재 자체 개발 양산 – 맞춤형 소재 (주요 용도 및 적용처)
반도체/디스플레이 클린룸 화학오염물질 제거 부식성 가스 제거 방사성관리구역 방사성가스 제거 소각로 다이옥신 제거 군용 독가스 제거 CO Gas 제거 악취 및 VOCs 제거 Resin 성형 공정 성형 Coating Resin Cl2 무기흡착제 HCl 무기흡착제 PFC 분해촉매    

11 반도체 및 디스플레이 산업용 - 주요 제품 반도체 및 디스플레이 관련 소재, 장비의 국산화 구 분 주요 기능
구 분 주요 기능 경쟁사 대비 비교우위 크린룸&장비유지 CA Filter Pleat Type Tray Type V-Bed Type Round Type V-bank Type 기술적 우위 저 압력손실 None Out-gassing Long Life Time 원가 및 가격경쟁력 흡착제 자체 생산 원부자재 자체 가공 납기단축 및 A/S 자체 원천기술보유 분석 장비/능력 보유 생산공정상 불량률 증가의 직접적인 원인이 되는 암모니아, 오존, 유기물 등을 제거

12 CA Filter ? 고 청정공간 유지(화학오염원)를 통한 생산성향상의 필수품 V-BED PLEAT
시대별 반도체 오염원 및 제거기술 Oxygen etc 주된 오염원 및 제거대상 제거기술 및 방법 Chemical Gases (Mix / organic) (CA Filter 국산화) Round HYBRID 오염원의 영향 Chemical Gases (CA Filter, 수입) Air Particle Contaminant (밀폐공간유지/HEPA Filter) TRAY V-Bank Metal Contaminant (Wet Cleaning Tech) [공기청정협회 공기청정기술지 06/12] CA Filter Type

13 CA Filter ? Type KAEL’s Model Target Gases MA MB MC MD Ozone VOCs
극 저농도 분자상 물질 제어 기술 Type KAEL’s Model Target Gases MA MB MC MD Ozone VOCs CYPLUS CYPLUS-1000 Series o PLEAT CYPLUS-2000 Series TRAY CYPLUS-3000 Series PANEL CYPLUS-5000 Series V-BED MA : Molecular Acids (SOx, NOx, HCl, Cl2, HF, H2S…,), MB : Molecular Bases (NH3, Amine, NMP..,) MC : Molecular Condensables (MW.120, BP.150℃ Organic material), MD : Dopants (Arsine, Boric Acid, Phosphorus…,) Ozone : O3 , VOCs : Volatile organic compounds)

14 Application for Semiconductor
⑤ ① ② ③ ④ ⑥ ① CYPLUS-5300 Series (MA, MB, MC, MD, VOCs) ② ALPLUS-5100 Series (Ozone, MA) ③ ALPLUS-1000, 2000 Series ( MA, MB, VOCs) PHOTO ZONE DIFFUSION/CVD ZONE ④ ALPLUS-1000, 2000 Series (Ozone, MA, VOCs) ⑤ CYPLUS-3000 Series (MA, MB, Ozone) ⑥ CYPLUS-3000 Series ⑦ CYPLUS-5200 Series (MC, VOCs) ⑦

15 Application for Display
③ ④ ④ ALPLUS-1000, 2000 Series (MB, MC, VOCs) ③ ALPLUS-1000, 2000 Series ( MB, MC, VOCs) TFT ZONE COLOR FILTER ZONE ② ① ⑤ ⑥ ③ ④ ①② CYPLUS-5000 Series (MB, MC, VOCs) ⑤⑥ CYPLUS-6000 SYSTEM (MA, MB, MC, VOCs)

16 장치 및 시스템 분야 – 주요 제품 핵심기술/소재의 장치화 및 시스템화 배기가스제어 Gas Scrubber 액상촉매 Scr'
Dry Scr' 이온교환 Scr' 이동식 유해가스 제거기 소각로 다이옥신 제거 부식가스 제거

17 Dry Scrubber Resin Process Film Gas KAEL Model No. 비 고 Etch Metal Al
비  고 Etch Metal  Al  Cl2, BCl3, SF6, C2F6  KSC-01 Dry Poly  W  Cl2, HBr, CF4, CHF3  KSC-02 Ion Implant  DOPE  AsH3, PH3, BF3  KSA-01 CVD  BPSG  TEOS, TMP, TMB, NF3, C2F6  KST-01  Core Oxide  TEOS, TMP, NF3, C2F6  W-CVD  SiH4, WF6, NF3  KSS-01  Poly Cide  DCS, NH3  KSD-01  IMO,ARC,HDP등  SiH4, PH3, WF6, HCl, NF3  KSN-01 Chamber Cleaning  ClF3  KSCC-01

18 장치 및 시스템 분야 – 주요 제품 핵심기술/소재의 장치화 및 시스템화 첨착활성탄 및 특수수지를 사용한 CA Filter 도입
양압 설비 & 공기정화장치 첨착활성탄 및 특수수지를 사용한 CA Filter 도입 제거효율이 높고 교환주기 연장가능 화학흡착으로 가스 포집 기술 방사성가스제거 RI Filter 연구소 및 병원 방사선관리구역의 방사성가스 및 분진을 기준치 이하로 제어하는 필터 및 이를 장착한 장치

19 장치 및 시스템 분야 – 주요 제품 핵심기술/소재의 장치화 및 시스템화 악취 제거 설비 MEMC Korea
한수원 MEMC Korea 대전 산업단지 폐수장 LG HIC SK 에너지 POSCO

20 장치 및 시스템 분야 – 주요 제품 핵심기술/소재의 장치화 및 시스템화 VOC 회수 및 제거 설비 호남석유화학 (주)SK
백연제거시스템 PAS (Plume Abatement System) (Samsung, POSCO사 14Set 공사 완료) PAS 설치 후 PAS 설치 전

21 특수가스제거용 필터 “삶의 質 향상 요구와 관련법규의 강화에 따른 환경제품의 국산화” 방사성 가스제거
방사성관리구역 및 원자력관련시설에서 발생하는 방사성가스 및 각종 유해가스를 제거 원자력발전소, 동위원소 취급 실험실의 방사성 가스 제거 병원 등 방사선관리구역의 배기설비에 설치 방 독 면 정 화 통 군용 방독면에 장착하는 화생방 방호용 화재등 긴급 대피가 요구되는 화재대피용 대중화방독면 유해가스 및 열악한 작업현장의 작업자 보호용

22 고객 맞춤형 대기환경 제품 개발 회사 " 독보적인 환경오염제어기술로 무결점 클린환경을 카엘이 만들어갑니다. "
무결점 클린환경을 카엘이 만들어갑니다. "                  대전광역시 유성구 탑립동 대덕테크노밸리 I3-8-4BL Tel : ~9 FAX : 대전광역시 대덕구 신일동 Tel : ~8 Fax :