WS-400 6NPP-Lite Laurell Tech. Corp.

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1 WS-400 6NPP-Lite Laurell Tech. Corp.
Spin Coater Manual WS-400 6NPP-Lite Laurell Tech. Corp.

2 구성 요소 Rotary Pump Spin Chamber Spin Controller
(WS-400 Process controller)

3 Vacuum chuck PR 받이 Process Controller

4 Program의 순서와 현재 상태 표시 Program setting 패널 Program 선택 및 수정 시작과 정지 및 진공버튼
1 2 3 4 Program의 순서와 현재 상태 표시 Program setting 패널 Program 선택 및 수정 시작과 정지 및 진공버튼

5 RUN / V= B min:sec rpm valu S-02: A-01: RUN/OFF 표시 Step 현재step/총step Vaccum level 23~25가 정상 Program Process time Acceleration time Setting value Current value

6 RUN 001/003 V=24.6 B Program 선택 (A~J) min:sec rpm valu
Select Program 선택 (A~J) F1 Progrma 수정 ADD STEP Program step 추가 Program Select STEP F1 ADD DEL ENGTER RUN STOP VACCUM PROGRAMMING VALUE CURSOR DEL STEP Program step 제거 STEP 다음 step으로의 이동 ENGTER Program 완료시 CURSOR VALUE 값과 커서 이동

7 조작 방법 Program 설정 Wafer loading Vacuum 설정 PR dropping (적당량) RUN

8 Program 설정 적당한 Program을 선택한다 프로그램의 확인 및 수정이 필요시 사용 Step을 확인한다
Select 적당한 Program을 선택한다 F1 프로그램의 확인 및 수정이 필요시 사용 STEP Step을 확인한다 ADD STEP Step추가시 사용한다 (2,3개의스텝을 사용) DEL STEP 필요없는 스텝은 제거 VALUE CURSOR 각 step의 커서의 이동과 값의 변동한다 ENGTER Program 완료

9 Wafer Loading Wafer 주의 : Wafer loading 시 정확하게 중앙에 위치 시켜야 함

10 Vacuum 설정 PR dropping RUN Vacuum 버튼을 눌러 설정한다 (V= 24 정도 나올것이다)
스포이드로 1스포이드를 wafer 중앙에 떨어뜨림 RUN RUN STOP RUN/STOP 버튼을 눌러 코팅을 시작

11 AZ1512 PR Coating Conditions Spin speed : 4000rpm, 30sec
Soft bake : 95℃, 1min Exposure : 15 sec Develop : 45sec ~ 1min Hard bake : 120 ℃, 3min

12 3000rpm: 1.6um 4000rpm, 1.3um

13 감사합니다!

14 RUN 001/003 V=24.6 B min:sec rpm valu S-02:30.0 1000 1030
Program Select STEP F1 ADD DEL ENGTER RUN STOP VACCUM PROGRAMMING VALUE CURSOR RUN 001/ V= B min:sec rpm valu S-02: A-01: Program Select STEP F1 ADD DEL ENGTER RUN STOP VACCUM PROGRAMMING VALUE CURSOR