ITO GLASS

상판 (Front Plate) 하판 (Back Plate) 요구특성 고투과율 저저항화 막두께의 균일성 BUS 전극과의 밀착성. 내열성, 내약품성. ITO(Indium Tin Oxide) - Sputter 법 ( 전도성이 가장 우수 ) - Ion Plating. - 진공증착법. SnO2( 통칭 :NESA 막 ) - 화학증착법 (CVD) 재료 및 성막방법 투명전극 (Sustain) 형성 공법 ITO(Indium Tin Oxide) - Photoetching - Liftoff 법 SnO2(NESA 막 ) - Liftoff 법 - Photoetching 법 2. BUS 전극 : BUS 전극은 방전시 저항에 의한 전압강하를 줄이기 위함. 요구특성 저저항화 투명전극과의 밀착성 선폭의 Uniformity 내열성 유전체와의 Matching 성 Cr/Cu/Cr,Cr/Al/Cr - Sputter 법 감광성 Paste(Ag) - 인쇄, Coating Paste(Ag) - Pattern 인쇄 재료 및 성막방법 BUS 전극 형성 공법 Cr/Cu/Cr,Cr/Al/Cr - Photoetching 법 - Liftoff 법 감광성 Paste. - Photo 법. 인쇄 Paste. - Direct Pattern 인쇄. 1. Address 전극 (Data 전극 ) : Data 를 writing. - BUS 전극의 요구특성 및 공법과 유사함. 1. 투명전극 (Sustain): 두 개의 쌍으로 이루어진 투명전극은 AC PDP 의 방전유지 전극으로써 Cell 내에서 플라즈마가 형성된 후, 방전을 지속적으로 다음 펄스에 의해 유지될 수 있도록 함.

ITO GLASS 란 ?  ITO Glass 는 투명 기판 (Glass) 위에 ITO 박 막을 sputtering 방법으로 코팅한 유리를 말 함.  투명 Plastic film 또는 sheet 기판에도 적용 이 가능. 참고 ) ITO 란 Indium Tin Oxide 의 약자이며, 투명하면서 전기가 통하는 물질임.

ITO 투명 도전막의 요구 성능  Pattern 형성에서의 Etching 잔유물이 없을 것.  미세한 Pattern 형성이 가능할 것.  기판, Resist 와의 접착성이 양호할 것.  저 저항일 것.  높은 투과성을 가질 것.  저항치, 투과율, Etching 속도의 면내 균일성이 높을 것.  막중에 Dust 나 결함이 없을 것.  제조 cost 가 낮을 것.  이러한 특성은 표시소자의 사용목적, 기능, 제조 Process 에 따 라 중요도가 다르지만, 특히 저항, 투과율 Etching 특성, 열안 정성은 중요한 특성이다.

ITO 유리의 제조방법  저항 접촉식 Touch Panel 용 ITO( 투명전극 ) Coating Film 제조기술 - 저항접촉식 Touch Panel 은 주로 FPD( 평판형 디스플레이 ) 에 채용되어 휴대용 PC, 전자수첩, 산 업용 PC, IMT2000 단말기 용 등에 채용되며, 입력방식이 압력에 의해 이루어 지므로 기존 유리소재로는 불가능하여 PET 나 PC( 폴리카보네이트 ) 수지에 저항을 가지는 투 명한 금속막이 증착된 ITO Coating PET 가 사용되어야 함 - 적용이 Portable( 휴대용 ) 제품에 사용되어 가볍고 접촉면적이 좁아야 하므로 증착되는 ITO 박막이 Patterning 되어야 함 - 수지나 Film 의 패턴을 위해 사용되는 Etching( 에칭 ) 설비가 고가이므로 ITO Coating PET 의 가격이 비 정상적으로 상승하게 되는데 비해, 본 기술은 진공증 착시 ITO 의 Patterning 공정이 동시에 진행이 되므로 별도의 Etching 공정이 불 필요 하게 되어 가격 경쟁력을 가짐  Heatable Film( 발열필름 ) 용 저 저항 ITO Coating Film 제조기술 - 온도 변화에 따라 투 과율이 조절되는 유리 ( 창 ) 에 적용되는 발열필름으로 ITO( 투명전극 ) 막이 저항 (30-40 Ω/□ → 12Volt 발열조건 ) 체로 작용하여 외부전원이 공급될 경우 필름에서 최고 70 ℃ 까지발열 되는 필름 - SnowMobile&AutoMobile 의 Halmet 의 Shield( 앞가리개 ) 에 생성 되는 성에를 제거하기 위한 기능으로 현재 활용되고 있음 - 투명전극으로 사용되는 ITO 박막의 경우, 광학용 저 저항의 전기적 특성을 가지기 위해서 높은 투과률을 가진 안정된 막 구성이 필요  전계발광 Power EL( 후막 EL) 용 Patterned ITO Coating Film 제조기술 - 면 발광용으 로 LCD Back Light 용과 광고 및 홍보용 패널로 사용되어지는후막형 Powder EL 을 제 조하기위해서 투명 전극용으로 ITO Coating Film 을 사용하고 있으며 ( 면저항 Ω/□) 이때, 증착된 ITO 가 발광되는 모양대로 Patterning 이 되면 후막형 EL 제품의 내구성 및 발광휘도 특성이향상이 되므로, 특허출원 기술인 "PVD 공정에서 Metal Mask 를 사용한 박막의 Patterning" 을 사용하여 패턴된 투명전극을 증착하는 기술

ITO GLASS 의 Patterning 방법  투명전극 Pattern 의 형성법은 Masking Resist 도 포공정의 차이로 부터 Screen 인쇄법, Offset 인쇄 법, Photolithograph 법의 3 가지 방법이 있다.  앞의 2 가지는 비교적 거친 Segment 표시 전극을 저 Cost 로 만들기에 적합하다.  Offset 인쇄법은 Screen 인쇄법 보다도 가는 전극 Pattern 을 저 Cost 로 만들 수 있는 방법이다.  Photo lithograph 법은 Photoresist 를 이용해서 Segment 표시 외에 Dot Matrix 표시와 같은 미세한 선폭의 Pattern 을 형성하는 Process 로서 가장 많 이 채용되고 있다. 그러나 노광장치 등의 설비를 필요로 하기 때문에 높은 Cost 가 소모되는 단점이 있다.

ITO GLASS 의 Patterning 방법  옵셋인쇄는 인쇄용 필름을 철판 ( 인쇄판 ) 에 밀착하여 소부 ( 빛 을 쬐여서 필름의 까만 부분을 철판에 전사 ) 후 인쇄기에 걸어 인쇄하는 방식을 말한다.  원색인쇄는 청, 적, 황, 먹 (CMYK) 의 순서로 각각의 색을 인쇄 하여 사진과 같은 원색의 효과를 나타낸다.  옵셋 인쇄는 미세한 점 ( 망 ) 으로 되어 있으며 각각의 색은 각도 를 달리하여 서로 겹치지 않도록 되어 있다.  옵셋인쇄는 매우 정밀한 인쇄이며 카다록 등 원색인쇄는 모두 옵셋이다. 옵셋인쇄는 한번에 CMYK 4 색을 찍는 4 색기와 2 색 을 찍는 2 색기 1 색씩 인쇄하는 단색기가 있으며 윤전기, 평판 인쇄기가 있고 평판인쇄는 전지인쇄기, 2 절 인쇄기, 4 절 인쇄 기 등이 있다.

ITO GLASS 의 Patterning 방법  공판 인쇄법  공판인쇄 (Stencil Printing) 에 속하는 것은 스크린 인쇄 (Screen Process Printing) 가 대표적이다.  여기에 사용하는 판은 화선부에 망사 구멍이 나타나게 제판하 여 이 망사 구멍으로 잉크가 통과하여 피 인쇄체에 부착된다. 비화선부에는 감광막이 경화되어 잉크가 통과하지 않는다.  스크린 인쇄물에는 플라스틱 용기를 비롯하여 유리, 도자기, 금속, 천, 비닐, 가죽제품이 있다.

Patterning 방법  Photolithography 광 ( 光 ) 을 사용하여 기판표면에 photo resister 가 코팅시키고, etching 을 하여 표면 을 산화시켜서 pattern 을 제작하는 기술을 말하는데, 반도체소자나, 대부분의 Micro electronics pattern 은 photolithography 기술 로 제작된다.

Pattening 공정 Lift Off 법 Acid Etching Photoresist 제거 Photo Etching 법 Roll 의 회전방향 Glass PR(Photoresist) Backup Roll Coating Roll Duct Roll PR UV(365nm) 조사. Photomask 1. PR Coating 2. 노광 3. 현상 4. SnO2 증착 ( 화학 증착법 ) 5. Photoresist 박리 PR(Photoresist) 1. ITO 증착 (Sputter) Roll 의 회전방향 Glass Backup Roll Coating Roll Duct Roll 2. PR Coating ITO(000~0000 Å ) Glass 3. 노광 PR UV(365nm) 조사. Photomask PR(Photoresist) ITO 감광된 부분 4. 현상 PR(Photoresist) 5. Etch/Strip ITO 감광된 부분

ITO Glass 의 Patterning 실례 Process 목 적 요구특성 재 료재 료 사 용 재 료사 용 재 료 설 비설 비 공 법공 법 절연성, 평활성, 고투과율, 저기포성, 전극과의 저반응성 유지전극 보호와 전기적으로 Condenser 역할 투명유전체 Screen 인쇄법 Dry Film 법 저융점 Glass Paste (* 상, 하층용 ) 저융점 Glass Green Sheet ( 상, 하층용 ) * 하층용 : 전극과의 Matching 성 상층용 : 절연성, 평활성 인쇄기 건조로 소성로 기포 27 ㎛ 건 조 전면 인쇄 소 성 두께 잔류 용제 Binder Burn-Out 전극과의 반응성 유전막의 구조 ( 치밀성, 표면조도 ) 대표 특성 Process Flow Laminator 건조로 소성로 유전층 Glass

TOUCH SCREEN 에서의 ITO GLASS 의 활용 1. 판넬은 “ 전극유리(ITO GLASS) ” 와 전극 필름 (ITO FILM)을 포함한 무영의 여러층을 구성. 2. 손 또는 펜등으로 표면을 접촉하면 터치 판넬상에서 접촉되는 위치 ( X,Y좌표 )를 컨트롤러에서 전기적 신호로 전환출력 가 능하게하는 화면의 위치인식 센서.

TOUCH PANEL 구조

제조장치 구성요소 Process 방식 재료 Tool 제조설비 전극형성후막인쇄법 스크린 도전성 Paste 스크린 인쇄기 건조로 소성로 Photo-Etching 법 감광성 Resist Photo-Mask Target 재 DC Sputter 장치 Resist 도포장치 (roll, coater, laminator, 기타 ) 노광장치 현상장치 Etching 장치 Resist 박리장치 감광성 Paste 에 의한 Photolithography 법 발광성 Paste 스크린 Photo Mask 스크린 인쇄기 건조로 노광장치 현상장치 소성로 형광체형성 후막인쇄법 스크린 형광체 Paste 스크린 인쇄기 건조로 소성로 보호층형성 전자빔증착 MgO Source 전자빔 증착 장치

제조장치 구성요소 Process 방식 재료 Tool 제조설비 격벽형성후막인쇄법 스크린 격벽 Paste 스크린 인쇄기 건조로 소성로 Additive 법 (Photo- 보충법 ) Dry. Film 격벽 Paste Photo Mask Dry. Film laminator 노광장치 현상장치 격벽 Paste 보충장치 건조로 Dry Film 박리장치 소성로 감광성 Paste 에의한 Photolithography 법 감광성 격벽 Paste Photo Mask Paste 도포장치 건조로 노광장치 현상장치 소성로 Sand Blaster 법 격벽 Paste Dry. Film 연마재 Photo Mask 격벽 Paste 도포장치 건조로 laminator 노광장치 현상장치 Sand Blaster Machine Dry Film 박리장치 소성로

TFT-LCD 소재 - 보호필름  보호 필름 (Protection Film) Prism sheet 의 Prism Peak 를 보호하는 기 능을 하며, Backlight Unit 의 광학 Sheet 를 외 부의 충격이나 이물 오염등을 방지하기 위 해 다양한 보호필름이 사용된다.

TFT-LCD 소재 - 보호필름  보호필름의 구조

TFT-LCD 소재 - 반사필름  반사필름 (Reflector Film) 광원에서 나온 빛을 도광판의 내부로 반사 시키는 역할을 하는데, 이는 도광판에서 방 출되는 광의 일부는 Panel 반대면으로 방출 이 되어 손실로 발생되지 않도록 도광판으 로 재입사를 시키기 위하여, 반사율이 좋은 반사필름이 사용된다.

TFT-LCD 소재 - 반사필름  반사필름의 구조

TFT-LCD 소재 -LRF  Lamp Reflector Lamp 를 감싸 최대한 광의 손실을 막고 많 은 빛을 도광판으로 반사시키기 위한 Lamp Reflector 로 사용한다

TFT-LCD 소재 -LRF  Lamp Reflector 의 구조