2011년 연구실 특허전략지원사업 광주과학기술원 레이저나노가공 연구실 [특허교육자료]

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2011년 연구실 특허전략지원사업 광주과학기술원 레이저나노가공 연구실 [특허교육자료] R&D특허센터 윤혜진 PM/특허법인 MAPS

2 목차 1. 특허 제도 개론 2. 특허출원 절차 3. 특허 검색 방법

3 1. 특허 제도 개론 특허 제도 개론 지식재산권 개요 특허 요건 논문 공개 특허 침해 판단 방법 해외 특허 출원

4 1. 특허 제도 개론_지식 재산권 개요 지식 재산권은 크게 산업재산권, 저작권, 신 지식 재산권으로 분류됨 산업재산권 특허
자연법칙을 이용한 기술적 사상의 창작을 보호 실용신안 Lifecycle이 짧은 물품의 형상, 구조, 모양에 관한 고안의 보호 디자인 물품의 외관에 나타난 디자인의 보호 상표 기호, 문자, 도형으로 구성된 표장에 화체된 신용의 보호 저작권 저작권(창작물) 및 저작인접권(실연, 방송, 음반제작자의 권리) 컴퓨터프로그램 보호법 프로그램에 나타난 표현의 보호(아이디어는 특허로 보호) 반도체배치 설계보호법 현재 MASKWORK의 유사 저작권 보호 영업비밀 비공지성, 비밀관리성, 유용성 기타 데이터베이스, 식물신품종, 신 지식재산권

5 1. 특허 제도 개론_지식 재산권 개요 특허 실용신안 상표 디자인 원천 핵심기술 ABS 기술 지능형 현가 시스템 기술
변속기에 관한 기술 저연비 엔진 기술 특허 라이프사이클이 짧은 주변개량기술 사이드미러 관련 기술 컵 홀더 관련 기술 자동차 문 관련 기술 의자 높낮이 조절 기술 실용신안 상품의 명칭 자동차 명칭 제조사 명칭 상표 물품의 외관 차체 형상 의자 형상 디자인

6 1. 특허제도 개론_특허 요건 특허요건: 특허출원된 발명이 특허권으로서 등록되기 위해 갖추어야 할 필수 요건
3대 요건: 발명의 성립성, 신규성, 진보성 발명의 성립성 자연법칙을 이용한 기술적 사상의 창작으로서 고도한 것 인위적인 약속, 게임 방법 등은 해당 안됨 신규성 국내외에 공지되거나 공연히 실시된 발명 또는 국내외의 간행물에 게재된 발명과 동일한 발명은 특허 받을 수 없음 진보성 공지, 간행물에 기재된 것과 차이가 있으나, 그로부터 용이하게 발명할 수 있는 발명은 특허 받을 수 없음

7 1. 특허제도 개론_논문 공개 특허 출원전에 논문 공개 등의 공지행위를 한 경우 일정 요건을 만족하여 출원하면, 신규성/진보성 판단시 해당 기술을 선행 기술로 보지 않음 국가 의사에 기한 공지 의사에 반한 공지 출원시기 시험 간행물 기재 대통령령이 정하는 전기통신회선을 통해 공지 학술단체가 개최하는 연구집회서면발표 한국 ○ (사유에 관계없이 인정) ○ 공지일로부터 6월 일본 중국 X 유럽 (요건 엄격) 미국 ○ (적용대상을 열거하지 않고 넓게 허용) 공지일로부터 1년

8 1. 특허제도 개론_논문 공개 가급적이면 논문의 발표 전에 특허출원을 준비하는 것이 바람직
논문 공개시까지의 소요시간을 고려하면, 논문을 제출한 후에 특허 출원을 요청하면 적절함

9 1. 특허제도 개론_논문 공개 공지 예외 주장시 필요한 서류: 논문집의 표지, 해당 논문집의 목차
공개일 판단시점: 본인의 학술대회 발표일이 아닌 논문집의 공개일(학회의 시작일) 인터넷을 통해 논문 공개를 먼저 진행하는 경우도 있음

10 1. 특허제도 개론_특허 침해 판단 방법 특허권은 독점 배타권(나의 실시를 보장하기 위한 수단이 아님)
정당한 권원 없는 제 3 자의 무단 실시는 특허권의 침해를 구성 특허 침해 여부 판단은 특허권의 청구 범위와 침해 대상 제품의 실시예를 비교 특허청구범위의 해석을 통한 권리범위의 확정 상세한 설명의 기재, 공지기술, 출원경과 등의 참작 침해대상기술(실시제품)의 확정 특허청구범위와 침해대상기술을 대비 문언적 침해여부 판단, 균등론적 침해여부 판단

11 All Elements Rule - 문언적 침해 판단
1. 특허제도 개론_특허 침해 판단 방법 침해 판단의 원리 All Elements Rule - 문언적 침해 판단 침해대상기술이 특허청구범위에 기재된 모든 구성요소를 포함해야 침해 청구항: 구성요소 A+B+C Rule of Exactness: 침해대상기술이 A+B+C인 경우 – 침해 Rule of Addition: 침해대상기술이 A+B+C+D인 경우 – 침해 Rule of Omission: 침해대상기술이 A+B인 경우 – 비침해

12 1. 특허제도 개론_특허 침해 판단 방법 침해 판단의 사례 연구 본 발명의 특허청구범위 실시예
(a) 엉덩이를 걸치기 위한 밑판과, (b) 상기 밑판에 부착되어 밑판을 지지하는 다리와, (c) 상기 밑판의 일측에 부착되는 등받침 을 포함하는 의자 실시예 침해대상기술(1) 침해대상기술(2) 침해대상기술(3) 원천 특허의 개발이 가장 중요, but 후발 주자의 경우, 개량 발명을 통해 cross-license 를 획득할 수 있으므로 개량발명도 매우 중요

13 1. 특허제도 개론_해외 특허 출원 각국 특허 독립의 원칙 특허 받은 국가에 한하여 배타권 인정 (속지주의)
 해외출원 필요 (외국에서 사업 또는 라이센싱 등을 위하여) 해외출원의 2가지 방법 해외의 개별국에 별도의 특허출원 PCT(Patent Cooperation Treaty) 국제출원 제도 이용  2가지 경우 모두 국내출원일로부터 1년 이내에 출원(파리조약 우선권제도 이용) 해야 특허요건 판단 시 소급효를 받을 수 있음 13

14 1. 특허제도 개론_해외 특허 출원 *R&D 특허센터 자료 참고

15 1. 특허제도 개론_해외 특허 출원 PCT 제도를 통한 해외출원의 장점
국제조사 및 국제예비심사의 활용으로 발명의 평가 및 보완기회 국제조사 및 국제예비심사의 결과가 부정적일 경우 더 이상의 절차를 진행하지 않음으로써 불필요한 비용의 지출을 방지 시장상황 분석을 통한 개별국에 진입 판단의 시간 확보(30개월) 국문으로 PCT 출원 가능함(개별국 진입 시점에 번역문 제출)

16 1. 특허제도 개론_해외 특허 출원 국내 해외 18개월 2~6개월 18개월 PCT출원 1년이내 국제조사보고서 국제예비심사
국내단계 미국, 일본, 중국, 유럽 등 진입 30(31)개월 이내 19개월이내 공개 / 심사결과 출원/ 심사청구 등록

17 2. 특허 출원 절차 2. 특허 출원 절차 전체 Flow 발명 신고서 작성 명세서 작성 명세서 샘플

18 2. 특허 출원 절차_전체 Flow

19 2. 특허 출원 절차_발명 신고서 작성 발명의 설명 특허청구범위: 핵심 구성을 기재
형식에 구애 받지 말고 발명의 내용을 충실히 기재 발명의 내용을 명확히 이해할 수 있도록 기재하는 것이 바람직 논문이 있는 경우, 논문의 내용을 요약함 발명의 설명 기술분야: 본 발명은 탄소 나노 튜브를 이용한 전자 방출원에 대한 것이다. 배경기술: 종래 전자 방출원의 기본 구성 소개 및 문제점 소개 발명의 내용 - 해결과제 : 전자 방출 특성이 개선된 전자 방출원의 제공 - 해결 수단 : CNT를 이용, 구체적인 구성 제시 - 효과: 해결 수단에 의하여 기대되는 효과 기재 특허청구범위: 핵심 구성을 기재 도면 : 본 발명의 구성을 잘 설명할 수 있는 도면 제시

20 2. 특허 출원 절차_명세서 작성 명세서는 발명을 당업자의 수준에서 이해하기 쉽게 풀어 쓴 제품/방법 설명서
당업자가 명세서를 보고 재현 가능할 수 있어야 함 가능하면 도면을 이용하여 비교적 상세히 설명함 발명의 핵심은 특허청구범위에 기재됨

21 2. 특허 출원 절차_명세서 작성 특허청구범위 작성: 발명의 필수 구성 요소 확정
(필수 구성 요소는 가능한 최소: 넓은 권리 범위, But, 등록 후 무효되지 않도록 유의- 발명의 상세한 설명을 충분히 상세한 기재함) 2. 각 구성 요소간의 유기적 결합 관계 기재 3. 독립항 결정 (다양한 발명의 카테고리 기재) (예) 장치에 관한 독립항, 제조 방법에 관한 독립항…) 4. 각 독립항에 대한 적절한 다수의 종속항 기재 (단, 1청구항 1 발명 기재) (등록 가능성 향상 및 제3자 후출원 등록 방지, 등록 후 무효심판을 당한 경우 대비, 다양한 권리 범위 확보 등)

22 2. 특허 출원 절차_명세서 샘플_1 1항 레이저를 이용한 분광 장치에 있어서,
상기 레이저를 방출하고, 시료에 집속하기 위한 레이저부(110); 상기 시료 주위에 정해진 시간구간 동안 분위기 가스(Gas)를 제공하는 가스펄스를 분사하기 위한 가스펄스부(120); 상기 시료에서 상기 레이저에 의하여 발생된 플라스마의 발광을 검출하기 위한 검출부(130); 및 상기 레이저부 및 상기 가스펄스부를 제어하기 위한 제어신호를 제공하는 제어부(140);를 포함하여 구성되는 분광 장치.

23 2. 특허 출원 절차_명세서 샘플_2 1항 2항 제1 전극(110);
상기 제1 전극상에 형성되고 상기 제1 전극을 노출시키지 않도록 소정의 깊이를 갖는 복수의 그루브를 구비하는 광흡수층(120); 상기 광흡수층상에 형성되는 버퍼층(130); 및 상기 버퍼층상에 형성되는 제2 전극을 포함하는 태양 전지. 2항 제1 항에 있어서, 상기 버퍼층은 상기 그루브의 형태에 대응하도록 상기 광흡수층의 전면(全面)상에 형성되고, 상기 제2 전극은 상기 그루브 형태를 덮도록 상면이 평평하게 형성되는 태양 전지.

24 3. 특허 검색 방법 3. 특허 검색 방법 키워드 검색 검색 연산자 번호 검색 주요 검색 사이트

25 3. 특허 검색 방법_키워드 검색 키워드 검색 항목(Field)별 검색 Noise A 주요문헌 B 전체문헌
기술적 특징을 잘 표현할 수 있는 키워드를 추출하고, 추출된 키워드를 조합하여 검색 항목(Field)별 검색 발명의 명칭, 발명의 상세한 설명, 청구항, 요약, 발명자, 출원인 별로 키워드 검색을 수행함 전체문헌 Noise A B 주요문헌 A 키워드는 Noise 과다 B 키워드는 주요문헌 누락

26 3. 특허 검색 방법_검색 연산자 연산자 절단자 키워드들 간의 관계를 지정하는 기호
AND : A와 B를 모두 포함된 특허문헌 검색 OR : A와 B 중 어느 하나를 포함하고 있는 특허문헌 검색 NOT : A는 포함하나 B는 포함하지 않는 특허문헌 검색 예) A not B Near : A와 B가 인접하게 붙어있는 특허문헌 검색(키워드의 순서 무관) 예) A near B Adj : A바로 다음에 B가 붙어있는 특허문헌 검색(키워드의 순서 고려) 예) A adj B 검색사이트에 따라 사용되는 연산자 표기 형태가 다름 연산자를 효율적으로 사용하면 보다 정확한 검색 결과 획득 절단자 키워드의 단어 후미나 앞에 붙여서 사용하며, 단어의 검색 폭을 넓게 지정 절단자의 예 : ‘ * ’ , ‘ ? ’ , ‘ $ ’ 등 (검색 DB에 따라 달라짐 ex. KIPRIS 자동 절단) 원하는 글자수를 제한하여 검색하거나, 글자수의 제한 없이 검색 가능

27 3. 특허 검색 방법_검색 연산자

28 3. 특허 검색 방법_번호 검색 번호 검색 출원 번호, 공개 번호, 등록 번호를 알고 있는 경우 번호를 이용하여 검색 한국
출원: 공개: 특허: 미국 출원: 10/012,813 공개: 2002/ ( 이후 출원만 부여) 특허: 5,146,634 일본 출원: 特原平 공개: 特開平 , 特開 특허: 유럽 출원: EP , GB , 공개: EP A1. EP A2 특허: EP B1 PCT 출원: PCT/JP04/10912, PCT/KR04/10912 공개: WO

29 3. 특허 검색 방법_번호 검색

30 3. 특허 검색 방법_주요 검색 사이트 한국특허검색 미국특허검색 일본특허검색 유럽특허검색
(무료) (무료) (유료) 미국특허검색 미국 특허청 상표 DB 구글 특허 검색 일본특허검색 일본전자도서관 유럽특허검색 유럽 특허청

31 3. 특허 검색 방법_KIPRIS

32 3. 특허 검색 방법_KIPRIS

33 3. 특허 검색 방법_KIPRIS

34 3. 특허 검색 방법_KIPRIS

35 3. 특허 검색 방법_KIPRIS

36 3. 특허 검색 방법_KIPRIS

37 3. 특허 검색 방법_KIPRIS

38 3. 특허 검색 방법_KIPRIS

39 3. 특허 검색 방법_WIPS

40 3. 특허 검색 방법_WIPS

41 3. 특허 검색 방법_WIPS

42 3. 특허 검색 방법_WIPS WIPS의 주요 편의 기능 마이폴더 기능: 검색식, 검색 결과를 폴더에 저장 가능
선택특허 일괄 보기 기능: 많은 양의 특허를 한꺼번에 볼 때 유용 패밀리 특허 보기 기능: 관련 특허, 우선권 주장 선출원을 확인할 수 있음 일본 명세서에 대한 기계 번역문 제공

43 3. 특허 검색 방법_Google patents

44 Q & A