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No. 연구장비명 규격 및 모델 용도 금액[천원] 비고
센터 연구장비 현황(1/4) No. 연구장비명 규격 및 모델 용도 금액[천원] 비고 1 Multi-Chamber Cluster 09SN57 비정질실리콘 박막 제조 박막형 태양전지제조 이종접합 태양전지 제조 고온급속열처리 3,000,000 2 4 probe point measurement 반도체 저항, 면저항 및 비저항 측정 20,000 3 QSSPC WCT-100 실리콘 웨이퍼 소수반송자 수명 측정 50,000 4 Resistivity Meter 박막 저항, 면저항 및 비저항 측정 5 Optical microscope 광학현미경
![No. 연구장비명 규격 및 모델 용도 금액[천원] 비고](http://slidesplayer.org/slide/14573543/90/images/1/No.+%EC%97%B0%EA%B5%AC%EC%9E%A5%EB%B9%84%EB%AA%85+%EA%B7%9C%EA%B2%A9+%EB%B0%8F+%EB%AA%A8%EB%8D%B8+%EC%9A%A9%EB%8F%84+%EA%B8%88%EC%95%A1%5B%EC%B2%9C%EC%9B%90%5D+%EB%B9%84%EA%B3%A0.jpg "센터 연구장비 현황(1/4) No. 연구장비명. 규격 및 모델. 용도. 금액[천원] 비고. 1. Multi-Chamber Cluster. 09SN57. 비정질실리콘 박막 제조. 박막형 태양전지제조. 이종접합 태양전지 제조. 고온급속열처리. 3,000, probe point measurement. 반도체 저항, 면저항 및 비저항 측정. 20, QSSPC. WCT-100. 실리콘 웨이퍼 소수반송자 수명 측정. 50, Resistivity Meter. 박막 저항, 면저항 및 비저항 측정. 5. Optical microscope. 광학현미경.")
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No. 연구장비명 규격 및 모델 용도 금액[천원] 비고
센터 연구장비 현황(2/4) No. 연구장비명 규격 및 모델 용도 금액[천원] 비고 6 Laser nano particle system 10SN011 결정질 실리콘 나노 파티클 제조 및 비정질 실리콘 박막제조를 통한 합성 200,000 7 Thermal evaporator 소면적 태양전지 전극 형성 및 금속 박막 제조 100,000 8 SM-EA 40cmX40cm 대면적 태양전지 전극 형성 및 금속 박막 제조 9 Nano-particle thin films deposition system 결정질 실리콘 나노 입자 제조 및 비정질 실리콘 박막층 합성 250,000 10 Furnace 고온열처리 장치 50,000
![No. 연구장비명 규격 및 모델 용도 금액[천원] 비고](http://slidesplayer.org/slide/14573543/90/images/2/No.+%EC%97%B0%EA%B5%AC%EC%9E%A5%EB%B9%84%EB%AA%85+%EA%B7%9C%EA%B2%A9+%EB%B0%8F+%EB%AA%A8%EB%8D%B8+%EC%9A%A9%EB%8F%84+%EA%B8%88%EC%95%A1%5B%EC%B2%9C%EC%9B%90%5D+%EB%B9%84%EA%B3%A0.jpg "센터 연구장비 현황(2/4) No. 연구장비명. 규격 및 모델. 용도. 금액[천원] 비고. 6. Laser nano particle system. 10SN011. 결정질 실리콘 나노 파티클 제조 및 비정질 실리콘 박막제조를 통한 합성. 200, Thermal evaporator. 소면적 태양전지 전극 형성 및. 금속 박막 제조. 100, SM-EA. 40cmX40cm. 대면적 태양전지 전극 형성 및 금속 박막 제조. 9. Nano-particle thin films deposition system. 결정질 실리콘 나노 입자 제조 및 비정질 실리콘 박막층 합성. 250, Furnace. 고온열처리 장치. 50,000.")
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No. 연구장비명 규격 및 모델 용도 금액[천원] 비고
센터 연구장비 현황(3/4) No. 연구장비명 규격 및 모델 용도 금액[천원] 비고 11 One step ZnO self texturing process system ZnO 박막 제조 및 표면 구조화 100,000 12 Magnetron Sputter system 3세대 양자점 태양전지 제조를 위한 비정질 실리콘 박막 제조 200,000 13 3gun RF/DC magnetron sputtering system MS G 전도성 박막 제조 및 이종접합 태양전지 투명전도막 제조 14 Solar simulator system LAB200 인공광원을 이용한 태양전지 측정 150,000 15 Screen printer 결정질 실리콘 태양전지 금속 전극 형성 20,000 (공압) 30,000 (전자식) 총50,000 (2기 합)
![No. 연구장비명 규격 및 모델 용도 금액[천원] 비고](http://slidesplayer.org/slide/14573543/90/images/3/No.+%EC%97%B0%EA%B5%AC%EC%9E%A5%EB%B9%84%EB%AA%85+%EA%B7%9C%EA%B2%A9+%EB%B0%8F+%EB%AA%A8%EB%8D%B8+%EC%9A%A9%EB%8F%84+%EA%B8%88%EC%95%A1%5B%EC%B2%9C%EC%9B%90%5D+%EB%B9%84%EA%B3%A0.jpg "센터 연구장비 현황(3/4) No. 연구장비명. 규격 및 모델. 용도. 금액[천원] 비고. 11. One step ZnO self texturing process system. ZnO 박막 제조 및 표면 구조화. 100, Magnetron Sputter system. 3세대 양자점 태양전지 제조를 위한 비정질 실리콘 박막 제조. 200, gun RF/DC magnetron sputtering system. MS G. 전도성 박막 제조 및 이종접합 태양전지 투명전도막 제조. 14. Solar simulator system. LAB200. 인공광원을 이용한 태양전지 측정. 150, Screen printer. 결정질 실리콘 태양전지 금속 전극 형성. 20,000. (공압) 30,000. (전자식) 총50,000. (2기 합)")
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센터 연구장비 현황(4/4) No. 연구장비명 규격 및 모델 용도 금액[천원] 비고 16 RTP system 진공 고온 급속 열처리 공정 500,000 17 Convection oven 결정질 실리콘 태양전지 전극 소성 2,000(1기) 8,000 (총 4기) 18 Dark I-V system 암상태 태양전지 특성 분석 20,000 19 DI Water system 대용량 초순수 여과장치 20
![센터 연구장비 현황(4/4) No. 연구장비명. 규격 및 모델. 용도. 금액[천원] 비고. 16. RTP system. 진공 고온 급속 열처리 공정. 500,000.](http://slidesplayer.org/slide/14573543/90/images/4/%EC%84%BC%ED%84%B0+%EC%97%B0%EA%B5%AC%EC%9E%A5%EB%B9%84+%ED%98%84%ED%99%A9%284%2F4%29+No.+%EC%97%B0%EA%B5%AC%EC%9E%A5%EB%B9%84%EB%AA%85.+%EA%B7%9C%EA%B2%A9+%EB%B0%8F+%EB%AA%A8%EB%8D%B8.+%EC%9A%A9%EB%8F%84.+%EA%B8%88%EC%95%A1%5B%EC%B2%9C%EC%9B%90%5D+%EB%B9%84%EA%B3%A0.+16.+RTP+system.+%EC%A7%84%EA%B3%B5+%EA%B3%A0%EC%98%A8+%EA%B8%89%EC%86%8D+%EC%97%B4%EC%B2%98%EB%A6%AC+%EA%B3%B5%EC%A0%95.+500%2C000..jpg "17. Convection oven. 결정질 실리콘 태양전지 전극 소성. 2,000(1기) 8,000. (총 4기) 18. Dark I-V. system. 암상태 태양전지 특성 분석. 20, DI Water system. 대용량 초순수 여과장치. 20.")
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