청정도 ( Cleanliness ) 관리 1. 청정도 관리의 새로운 분야 1.1 기존 청정도 관리 Brand & Product 청정도 ( Cleanliness ) 관리 1. 청정도 관리의 새로운 분야 1.1 기존 청정도 관리 (1)Cleanroom Cleanliness - FED-STD-209, ISO ISO 14644 Part 1, 2 (2)Gas (3)Liquid

1.2 새로운 청정도 관리 (1)제조환경의 표면 청정도 관리 - 종전: 특별한 규정 없음 - 최근: SCP Brand & Product 1.2 새로운 청정도 관리 (1)제조환경의 표면 청정도 관리 - 종전: 특별한 규정 없음 - 최근: SCP - 관련규격: ISO 14644 Part 9 Classification of surface cleanliness by particle concentration (2)제품자체의 표면 청정도 관리 - 종전: 우주항공 / 우주망원경 / 위성 / 탐사 로봇 등 : MIL-STD 에 규정 - 0.1 Square Meter 당 입자수 - 최근: (1) 반도체/디스플레이 제조 장치용 부품: IEST-REC 에 규정/인용 0.1 Square Meter 당 입자수 (2) 각종 필름, 크린룸용 부자재 ( 방진복, 와이퍼, 장갑 등) --- 적용이 필요할 것으로 판단 (3) 포장재 등 - 관련규격: IEST-STD-CC1246E: PRODUCT CLEANLINESS LEVELS – APPLICATIONS, REQUIREMENTS, AND DETERMINATION

2. 표면 청정도의 확보 및 관리 방법 2.1 건식( Air 방식) (1)표면흡입 프로브 방식 --- QIII 등 Brand & Product 2. 표면 청정도의 확보 및 관리 방법 2.1 건식( Air 방식) (1)표면흡입 프로브 방식 --- QIII 등 (2)진공챔버 방식 ----------- Parts Clean 업체 등 (3)고속분사 압력챔버 방식---> 당사 개발 방식 (Monaco 시리즈) 2.2 습식 (1)Clean Liquid 에 Shaking 한 후 Liquid Particle Counter 로 검사 2.3 스캔방식 -- 주로 반도체, 디스플레이 등 표면이 균일한 (MIrror ) 에 가까운 경우 -- KLA/Tencor등 2.4 전용 시험지 분리 후 계수 방식 ----> 당사 개발 SurfCount / MicroLabo 필름 사용

3. 표면 청정도의 확보 및 관리 방법 4. Monaco 시리즈 개발 목적 3. 건식 표면청정도 평가기기용 센서 Brand & Product 3. 표면 청정도의 확보 및 관리 방법 3. 건식 표면청정도 평가기기용 센서 3.1 Laser Particle Counter : 0.1 um 내외가 한계 - Flow rate: 1 CFM ( 28.6 lpm) 3.2 Condensation Particle Counter: 10 nm 가능 - 단 Flow Rate 1 lpm 4. Monaco 시리즈 개발 목적 고청정 요구 장비용 부품중 Hole 이 형성된 부품의 Hole 부 및 표면의 입자를 검출, 관리하기 위하여 개발. (업계의 필요성 대두에 따른 개발)

5. 다양한 방식 과 기술의 검토 및 문제 분석 Brand & Product - Q III 등 흡입프로브 방식: - 통상 1 CFM 정도의 입자계수기 흡입력에 의하여 표면으로 부터 분리되는 입자만 계수가능 - Shower Head 등 소구경 Hole 내부의 Particle 은 계수 어려움 (거의 계수 안됨) - 프로브 및 작업자의 손(장갑착용) 등으로 부터의 대형 입자가 제품에 전도됨. - 진공챔버 방식 (고진공인 경우) 진공상태에서는 Hole 부분의 유체 흐름이 없으므로 별도의 힘이 Particle 에 인가되지 않으면 입자의 분리는 어려움 주로 공정장비에 직접적으로 광원으로 조사하여 내부의 개스중에 존재하는 Particle 을 계수가능 (삼성전자의 등록 특허가 있음) - 진공챔버 방식 ( 저진공, 대량 Flow 형성 방식) Hole 부분의 유체 흐름에 의하여 일부의 입자가 분리되나 진공 펌프측으로 사라짐 - 이러한 유체흐름에 대해서 10 nm 레벨의 Particle 을 계수할 경우 CPC 가 1 LPM 등 극소량의 공기(또는 개스)를 흡입하게 되므로 검출 가능성이 희박하게 됨 (단 계수 데이터로는 Particle이 거의 없다고 나오게 됨)

5. 다양한 방식 과 기술의 검토 및 문제 분석 (계속) Brand & Product 5. 다양한 방식 과 기술의 검토 및 문제 분석 (계속) - 습식 - 물이나 해당 용액에 녹는 입자의 검출 불가 - 통상 크리닝 시에 Water 등을 사용하게 되므로 실제로는 검출될 가능성이 매우 낮음 - 계수시의 환경에 따라 기포 혼입으로 데이터 신뢰성 저하 발생 - 스캔방식 - 장비용 부품류는 그 표면이 실리콘웨이퍼 처럼 균일하지 않아 스캔방식으로 입자를 구분하기 어려움

6. Monaco 시리즈 개발 Brand & Product - Monaco 시리즈 ( 특허등록 )개발 - 입자의 분리가 용이한 가압 분사 방식으로 입자를 분리하는 방식 - 압력챔버에 의해 분리된 입자가 소실 되지 않도록 챔버내에 고정 - 고정된 공기를 입자계수기로 흡입하여 입자를 계수 - 입자계수기의 흡입량이 적은 CPC 등을 적용하더라도 입자의 계수가 가능 - 시험전체를 청정한 공간내에서 실시하여 작업자 및 주변환경으로부터의 오염 전도 가능성을 최소화

7. SurfCount 개발 목적 Brand & Product - 고정된 장치의 표면의 대형 Particle 관리를 위함 - 기존의 QIII 등은 표면의 입자 분리 능력이 약해 검출 불가한 영역에 적용 - Cleanroom Wiper 의 크리닝한 표면의 전 후 비교가 가능한 수준 - 장비 세정용 Wiper 등에서도 대형 Particle ( TiO2 성분 등) 이 다수 발견됨에 따라 관리할 필요성. (첨부 자료에 샘플 제시 합니다.)

개발 History 2010.01. 선행특허등록; 크린룸자재의 입자오염 시험장치 (챔버내 Particle 제어 기술 확보) Brand & Product 개발 History 2010.01. 선행특허등록; 크린룸자재의 입자오염 시험장치 (챔버내 Particle 제어 기술 확보) 2013.09. 반도체장치용 부품 Particle 평가장치 개발 프로젝트 시작 2014.07. 반도체장치용 부품 Particle 시험장치 중 다공형성부품 (Shower Head 용) 장치 개발 완료 – 모델명 Monaco 1000 2014.08 Monaco 1000 1호기 납품 – (주)싸이노스 2014.09 Monaco 1000 에 대한 부품수요고객(삼성전자)설명 실시 (싸이노스 주관 동행) 2014.10 QIII 와 의 비교 변별력 시험 – 우수 판정(변별력높음, Hole 내 Particle 검출) 2014.12 검사 후 장비장착 전 Shower Head 표면 이물 제거 기능 추가 신모델 Monaco 1001 PS, Monaco N30 출시

Brand & Product 지적재산권 (특허등록) 개발의 의의: (1)기존 표면전용 (예: Pentagon/QIII ) 등의 경우Hole 내 Particle 검사가 불가능함. (2)Liquid 에 넣어 Liquid 를 검사하는 경우  D.I Water 에 녹는 입자는 검사 불가. 검사에 많은 시간 소요 검사 후 재건조 필요 D.I Water 검사시 기포 등으로 데이터 정확성 저하 - 상기의 문제를 해결하고 검사시 작업자로 부터의 입자전도를 차단