LCD - CF 제조 공정.

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1 LCD - CF 제조 공정

2 Color Filter의 기본 구조 - 일반적인 단면 구조 ITO B/M GLS 일반적인 Color Filter 구조 보호막
IPS용 Color Filter 구조

3 Color Filter 제조방법 및 사용방법
염색법 B/M 유리기판 감광제 도포 감광 현상 방염층 염색 전착법 ITP Pattern 유리기판 전착 전착 안료분사 B/M 형성 전착

4 안료분사법 B/M 유리기판 감광성 Color 수지 도포 감광 현상 인쇄법 B/M 유리기판 인쇄 인쇄 인쇄

5 - 제조 방법별 특성 특성/제조 방법 염색법 전착법 안료분사법 인쇄법 착색제 염료 안료 지지체 제라틴 /아크릴 아크릴/에폭시
Film Thickness 1.0~2.5㎛ 1.5~2.5㎛ 1.0~3.0㎛ Contrast 2000 300~400 400~500 800~1000 색특성 매우우수 보통 우수 내광성 Resolution 10~20㎛ 50~70㎛ 공정수 나쁨 대형화 가능성

6 Black Matrix - Black Matrix 란?
각 화소의 영역을 결정하여 빛샘을 방지하고 R.G.B간 색간섭을 방지 하여 선명도를 높이는 역할을 한다 - Black Matrix 재료의 종류와 특성 특성/재료종류 Cr Cr/CrOx 이층막 수지BM Graphite 차광재 Cr/CrOx Carbon 안료 or RGB 합 안료 막두께 ~0.2 ㎛ ~0.1㎛ ~0.4㎛ 반사율 ~50% ~4% ~2% ~7% 제조공정 Photolitho Lift-Off B/M 공정 숫자 8 5 7 공정 안정성 매우우수 우수 보통

7 Glass 1.무기 Particle 세정 2.유기 Particle 세정 Glass Substrate

8 CrOx 증착 # Cr 단일막일 경우 반사율이 ~50% 인 반면 Cr/CrOx의 경우 ~4%이다

9 Cr 증착 # 막두께 : 2000Å # B/M 막의 경우 : Carbon 수지를 사용 하기도함

10 PR Coating

11 Black Matrix Masking

12 B/M Etching

13 Red

14 Exposure UV UV

15 Red # 막두께 : 2000Å After Develop& Bake

16 green

17 Exposure UV UV

18 green # 막두께 : 2000Å After Develop& Bake

19 blue

20 Exposure UV UV

21 blue # 막두께 : 2000Å After Develop& Bake

22 Over Coat - 재질 : 아크릴 Or Polyimide 계열의 Regin 목적 : RGB 패턴의 보호와
평탄화를 위하여 사용 - 두께 : 1.0~3.0 ㎛

23 ITO